優れたトポロジーでテクスチャのストレッチを防止する方法はどのようになるのでしょうか？

優れたトポロジーは、ポリゴンの均等な分布とバランスの取れた顔のアスペクト比を確保することで、テクスチャの引き延ばしを防ぎ、UVマップによるテクスチャの均一な配置を可能にします。 - 一貫したポリゴンサイズのクワッド優先メッシュを使用すると、UVのアンウラップが予測可能になり、テクスチャが均一に広がります。 - 極端な顔のアスペクト比（長い、細いポリゴンなど）を避けることで、UV間隔の不均一や引き延ばしを防ぎます。 - UVシームを自然なモデルエッジ（関節、折り目など）に合わせることで、歪みを局所化し、視認性を最小限に抑えます。 これらのステップにより、テクスチャがスムーズにマッピングされ、引き延ばしが防止され、モデルのリアリズムが向上します。