若想将高多边形模型的细节烘焙至低多边形3D模型（避免产生过高的多边形数量），需借助相关工具将纹理数据（法线、环境光遮蔽等）从高多边形源模型传输至已展开UV贴图的低多边形目标模型中。
- 烘焙技术能将精细细节（划痕、褶皱）转化为二维地图。这使得低多边形模型无需额外增加面数就能呈现出丰富的细节效果。关键烘焙贴图包括：法线（深度）、环境光遮蔽（阴影）、曲率（磨损）。 - 制作过程中需准备两个对齐且经过UV展开的模型：高多边形模型（用于保留细节）和低多边形模型（用于提升性能）。
初学者可以尝试Blender的内置烘焙功能。首先将模型对齐，拆分低多边形模型的UV贴图，将高多边形模型设为源模型，然后生成纹理贴图——这样既能获得清晰的细节效果，又无需过高的多边形数量。